顕微鏡用迅速試料作成装置 (TENSEC)

本装置は真空引しした後、プラズマ化したアルゴンイオンを満たし、試料表面の不純物を取り除くとともにエッチングする。結晶構造や方位の違いを浮き彫りにする。従来のケミカルエッチングより、高精度・高精密である。

初心者も自分で操作できますが、その場合スタッフの勤務時間中とします。



概 要
【仕様】

機種 : 堀場製作所 TENSEC
イオン源 : Arプラズマ
イオンエネルギー : 〜50eV
使用・Kス : アルゴン (純度99.9%) 0.5MPa
試料サイズ : 100(W) × 100(D) × 30(H) mmまで可能
処理面積 : φ2mm,φ4mm,φ7mm
処理速度 : 2.4μm/分 (Si)
試料セット部分 : H1000mm
処理可能サンプル : 金属,半導体,セラミックス,ガラス,岩石

【維持管理担当者】

久保 臣悟 (内線 : 7188) , kubo_s@gm.
※ : E-mailは末尾に kagoshima-u.ac.jp をつけてください。
機器分析施設連絡先 : TEL/FAX 099-285-7188

【設置場所】

理工系総合研究棟 6階

【特徴】

本装置は、Rf電源を使用しサンプル面をロータリポンプで真空引し、その空間にプラズマ化したアルゴンイオンを満たし、発生する高速イオンが試料表面を少しずつはぎとり表面の不純物を取り除くとともに、金属等の結晶構造などを瞬時に浮き彫りにしていく。従来行われていたケミカルエッチング等を使用しなくても良くなった。
また、試料をスパッタするアルゴンイオンが50eVと非常に低いという特徴がある。イオンが試料のなかに侵入する深さはエネルギーに依存しているため、rf-GDではイオンの侵入は1原子層の厚さにも満たない。そのためイオンの侵入による表面の損傷や変質 (mixing層の形成) はほとんど問題にならないうえ、1原子レベルの細かい「組織出し」による精細な画像を得ることができる。

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